ACE 환경기술

Air control Engineering Co., Ltd.

습식전기집진기의 필요성

가스흡수탑을 통과한 암모니아(NH3)가스는 산성가스(SO3, HBr, HCl, HNO3, HF 등)와 반응하여 암모늄을 형성하거나, 산성가스 자체의 응축현상(Acid Ddew)으로 미세액적(0.1~1㎛)이 생성되어 백연현상을 유발하며, 이렇게 생성된 미세액적은 오염물질 성분을 포함하고 있어 배출가스 측정시 시료에 포집되어 효율부족현상을 가져온다. 이러한 서브마이크론 의 제거는 정전기력을 이용한 전기집진기를 통해 고효율 처리가 가능하다.


WF (Water film) WET 전기 집진 기술

  • 전기집진부로 유입된 가스는 중심부에 설치된 방전극 (- 고전압 인가)에서 , Corona discharge 에 의해 음(-)이온으로 충전되며, 유입되는 미세입자는 음이온을 흡착하고 전기적으로 (-) 하전된다.
  • 하전된 입자는 집진극과 방전극 전계와 입자하전량에 의한 쿨롱력에 의해 집진극 (+ 극, 접지) 으로 이동 부착된다.
  • 집진원통 내벽에 부착된 입자는 내벽에 흐르는 Water film에 의해 하부 순환탱크로 이동하여 제거된다.

수직형 하이브리드 Water film WET 전기집진기

System Flow Diagram

건식/습식 전기 집진기 비교

항목 Dry ESP Wet ESP Remarks
목적 일차적인 입자제거 고도입자제거 습식은 고도처리용
설치위치 전단 후단 습식은 최종단에 설치
형상 수평, 판형 수직튜브 또는 수평/수직 판형 습식은 다향한 형태로 제작가능
운전습도 5~20 RH% 100 RH% 주로 상대습도 100%에 가까운 경우에 적용
온도 120~425°C <100°C 건식은 황산결로온도 이상(>120℃)에서 운전됨
고농도 먼지처리 가능 불가능 습식은 고농도 먼지에 적용은 불리함
PM10 제거 최적 제한됨 습식은 큰 먼지 제거에 잘 적용 안함
PM2.5 제거 보통 최적 습식은 서브마이크론 입자 제거에 탁월함
응축성 입자제거 불가 최적 습식은 응축성 물질의 제거에 유용함
H2SO4 제거 불가 최적 습식은 황산미스트 제거에 유용함
비집진면적(SCA) 90~240 s/m 15~60 s/m
처리유속 0.5~1.5 m/sec 0.5~5.0 m/sec
압력손실 < 50 mmAq < 50 mmAq
폐수발생 없음 있음
먼지의 비저항 영향 없음 습식은 먼지의 비저항에 영향 받지 않음
역코로나 발생함 없음 습식은 역코로나 현상이 없음
먼지의 재비산 발생함 없음 습식은 먼지의 재비산이 없음
재질 카본스틸 플라스틱 또는 내식강 습식은 내식성이 우수한 비금속재료를 주로 사용함
비용 비교적 낮음 비교적 높음

연속수막 습식 전기집진기의 특징 (Water film wet electrstatic Precipitator)

  • 집진극 표면 Water film 형성으로 24시간 연속 운전가능 (집진극 분진부착 차단)
  • 아크, 스파크 등에 의한 화재예방 (운전 중 화재예방)
  • 강산(염산,황산,질산) 비전도성이며 내부식성이 우수한 부도체 재질도 집진판 구성 가능
  • 스파크(spark-over)와 단락(short) 현상을 최소화하여 안정적인 고효율을 실현
  • 분진비저항이 높은 먼지 포집시 에도 역코로나 현상이 발생하지 않음.
  • 포집 분진의 재비산이 없으며, 수분이 포함된 미세먼지의 처리에도 적합함.
  • 오염물질 응축으로 크기가 증가하여 입자 하전율이 커져 집진 효율 증가.
  • 스크라버, 벤츄리 스크라버와 병행하여 효과적인 처리시스템 구성 가능

Water Film WET 전기 집진기의 장단점 

장점

  1. 1집진효율이 높다.
  2. 2대단히 작은 입자도 집진할수 있으며 제거되는 입자의 최소크기에 제한이 없다.
  3. 3압력손실이 적다.(보통 30mmAq이하 이며 최대 120mmAq이하)
  4. 4연속운전이 가능하고 유지관리비가 적게든다.
  5. 5고온 고압가스 처리가 가능하다
  6. 6대량의 가스를 처리할 수 있다.
  7. 7동력소모가 적다.

단점

  1. 1초기 시설비용이 높다
  2. 2분진의 전기적 특성을 고려해야 한다.
  3. 3고압전기를 사용하므로 안전에 유의한다.

적용

  • 초미세입자 제거(0.1μm 이하)
  • FURAN((Heterocyclic Compound), DIOXIN등의 제거
  • 중금속입자, MIST, FUME, 점착성 입자의 제거
  • 불산(HF),황산(H2SO4)미스트 등의 제거
  • 질산암모늄 (NH4NO3, NH4NO2)의 제거
  • 초미세입자 제거(0.1μm 이하)
  • FURAN((Heterocyclic Compound), DIOXIN등의 제거
  • 중금속입자, MIST, FUME, 점착성 입자의 제거
  • 불산(HF),황산(H2SO4)미스트 등의 제거
  • 질산암모늄 (NH4NO3, NH4NO2)의 제거

적용사례

Chemical adsorption 이해

  • 화학흡착제(chemical adsorbents)란 다공성의 물질에 제거하고자 하는 대상Gas와 효율적으로 반응하는 화학작용제를 첨착 혹은 혼합 성형하여 만든 제품을 말한다.
  • 다공성 제품은 대상Gas의 물리적흡착(모세관 현상)을 용이하게 하여 화학작용제의 제거율을 극대화하는 역할을 하며, 화학작용제는 대상Gas와 반응을 하여 제거하는 물질로서 반응 후 다공성 기공내에 고착한다.
  • 화학흡착제는 유기계 약재와 무기계 약재로 구분된다.

물리흡착 제거 원리

화학흡착 제거 원리

물리흡착 Vs 화학흡착 성능비교

흡착 성능 평가 [ TMA ; 트리메틸아민 ]

흡착 성능 평가 – Mercaptane

일반 활성탄에 10배의 흡착 성능

Chemical Media 종류

  • MEDIA FOR SULFURIC GAS
  • MEDIA FOR AMINE GAS
  • MEDIA FOR ALDEHYDE GAS
  • MEDIA FOR VOC GAS
  • MEDIA FOR ACID GAS
  • MEDIA FOR TOXIC GAS
  • MEDIA FOR Influenza Virus & AI Virus

Table : Chemical Media List

●적합   ○적용가능
구분 Organic Media Inorganic Media Special
Target Gas CN CS CM CX CD AM ICA AO ST
NH3
SOx
NOx
O3
Cl2
HF
HCl
H2S
MM
TMA
Ethylene
CO2
CO
Aldehyde
PGMEA
PGME
Phosgene
Acetic Acid
PFC
VOC
Virus

CAFILSORB-CN

NH3 Conc.: 50 ppm, S.V= 1,200 min-1,
RH = 50%, Mass Analyzer

Product information

Composition Chemical impregnated carbon
Particle shape Extrudated Crushed
Target contaminants NH3, TMA, Amine, Amide
Use Filling in case or coating on supported material
Application Living room, Toilet, Office

CAFILSORB-AM

SO2 Conc.: 200 ppm, S.V= 3,6000 hr-1,
RH = 50%, Gas Sensor

Product information

Composition Chemical impregnated metal oxide
Particle shape Sphere Extrudated
Target contaminants Sulfur compounds, NOx, Ethylene
Use Filling in casel

CAFILSORB-CS

Acetic acid Conc.: 1㎕, Chamber Test
RH = 50%, Chemical test kit

Product information

Composition Chemical impregnated carbon
Particle shape Extrudated Crushed
Target contaminants SOx & NOx, H2S, Acid compounds
Use Filling in case or coating on supported material

CAFILSORB-CM

Methyl Mercaptan Conc.: 500 ppm,
Flow Rate 100cc/min, Mass Analyzer

Product information

Composition Chemical impregnated carbon
Particle shape Extrudated Crushed
Target contaminants Sulfur compounds, Organic acids, Phosgene etc.
Use Filling in case or coating on supported material
Application Refrigerator, Kitchen

CAFILSORB-ICA

HCl Conc.: 10,000 ppm,
Flow Rate 650cc/min, Mass Analyzer

Product information

Composition Metal oxide mixture
Particle shape Extrudated(Crushed)
Target contaminants Chlorine, Hydrochloric acid, Carbon dioxide
Use Swimming pools, PVC molding utility

CAFILSORB-CX

Ozone Conc.: 2,000 ppm,
Flow Rate 2,000cc/min, Mass Analyzer

Product information

Composition Chemical impregnated carbon
Particle shape Extrudated Crushed
Target contaminants VOCs, Ozone, Hydrocarbons
Use Filling in case or coating on supported material
Application Kitchen, Electric Heater

CAFILSORB-CD

Acetaldehyde Conc.: 330 ppm,
Flow Rate 340cc/min, Mass Analyzer

Product information

Composition Chemical impregnated carbon
Particle shape Extrudated Crushed
Target contaminants Acetaldehyde, Formaldehyde, Acetic acid
Use Filling in case or coating on supported material

CAFILSORB-AO

Carbon Mono-oxide Conc.: 50 ppm,
Flow Rate 1,000cc/min, Mass spec.

Product information

Composition Chemical impregnated metal oxide
Particle shape Sphere
Target contaminants Carbon mono-oxide, Aldehydes
Use Filling in case

CAFILSORB-ST

KTR의 “살균력 평가”

  1. 1Staphylococcus Aureus (황색포도상구균)
  2. 2Klebsiella Pheumoniae (폐렴막대균) => 평가 결과 : 살균력 99.9%

Ref. Analyzer for Deodorant

Test Utility Ⅰ

Test Utility Ⅱ

독성가스기보관소별 Cemical adsorption 반응식

ROOM NO 구 분 GAS NAME
(영문)
CHEMICAL ADSORPTION CHEMICALL ADSORBENTS 반응식
R-1 독성창고 1 ASH2 B-1 4AsH2 + 11CuO → 2Cu2As + As2O5 + 7Cu + 6H2O
SiH4 MTx SiH4 + 2MOH →àM2Si + 2H2O + H2
Si2H6 CARBON Si2H6 + 4MOH →à2M2Si + 4H2O + H2
B2H6 B2H6 + 3CuO → B2O3 + 3Cu+3H2
PH3 PH3 + 3CuO → Cu3P + P + 3H2O
R-2 독성창고 2 ASH2 B-2
 
NH3 CN NH3 + MeSOx →à(NH3)nSOx
R-3 독성창고 3 C2H4O B-3 C2H4O --> 흡착제거
CO CE CO + O2 → CO2
HC CARBON HC ---> 흡착제거
R-4 독성창고 4 HCI B-4 MF 3HCl + MO(OH) →àMCl3 + 2H2O
NF3 CARBON NF3 : NF3 + A/C → 흡착제거
CI2 CS Cl2 + 2MOH → 2MCl + H2O + 1/2O2
Cl2 + M(OH)2 → MCl2 + H2O + 1/2O2
R-5 독성창고 5 NO B-5 CARBON AC + NO → CN*, CNO*, CNO3*
so2 CX MeOH + SO2 → MeSOx + H2O

P & ID

Chemical Adsorption Tower

ADSORPTION TOWER DESIGN

흡착탑 설계기준

  • 공탑 속도 : 0.35~0.5m/sec
  • 체류시간 : 1 sec 이상
  • Depth (흡착제 충진 두께) : 500mm

Control

Gas Chemical Adsorption Tower Operation Manual

상황 운전방법 1 운전방법 2 비고
평상시(GAS 유출없음) 방지시설 및 배기팬 정지 ROOM의 음압을 유지하기위해 배기팬만 운전 방지시설은 미운전 ( VALVE OFF) 상황에 따라 운전방법 결정
ROOM내부에 GAS 유출 발생시 GAS DETECTOR SETTING 농도에 따라 감지 -> FAN/방지시설 운전 / ALARM 송출 -> 감지농도 이하로 떨어지면 FAN/ALARM 정지 -> 유출된 ROOM에 설치된 GAS DETECTOR SETTING 농도에 따라 감지 -> 해당 방지시설 VALVE OPEN / ALARM 송출 -> 감지농도 이하로 떨어지면 해당방지시설 VALVE OFF & ALARM 정지
Event 발생 후 조치 유출 ROOM 및 방지시설 점검 -> 필요에 따라 Chemical Media 교체 진행 유출 ROOM 및 방지시설 점검 -> 필요에 따라 Chemical Media 교체 진행